渡邉 智さんが一般社団法人 日本溶射学会 第１１２回(２０２０年度秋季)全国講演大会でベストプレゼンテーション賞を受賞

【研究目的】
超音速フリージェットＰＶＤを用いたＭｏＳ?（二硫化モリブデン）とＮｉ（ニッケル）を複合化させた膜の作製及び摺動特性の評価検討を行うことです。

【研究内容】
超音速フリージェットＰＶＤという新しい成膜技術を用いて、ＭｏＳ?とＮｉを複合化させた膜を作製しました。
その結果、ＭｏＳ?とＮｉのそれぞれの膜原料から複合膜を作製することに成功しました。
また、膜中のＭｏＳ?量の増加に伴って、摺動特性が向上することを明らかにしました。

【今後の展望】
今後は複合膜の平滑化に焦点を当てて研究に取り組んでいこうと考えています。
膜の表面粗さは摺動特性にも大きく影響を及ぼすので平滑な成膜ができる条件を模索していく予定です。