石井 克典 さんが第40回水素エネルギー協会大会（HESS大会）で学生優秀発表（ポスター）賞を受賞

【研究目的】
水素エネルギー社会の実現に向けて、膜分離技術は、高純度水素ガスを得ることができる効率的な技術として注目されています。
本研究では、水素選択透過特性を示す化学蒸着 (CVD) シリカ膜の製膜メカニズムの調査を行いました。

【研究内容】
対向拡散CVD法とガス分析を組み合わせた検討を行いました。基材細孔を拡散する成分の検出量から、シリカ膜の製膜状況の評価に成功しました。
また、分離対象となるガス分子を混合して反応を行うことで、その検出量の差から分離特性の発現過程を評価することに成功しました。

【今後の展望】
私たちの研究グループでは、有機置換基をシリカ骨格に導入することで膜の細孔径を制御の検討を行っています。
使用する前駆体構造が蒸着反応に及ぼす影響を調査し、より高度な膜開発したいと考えています。